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第二百九十九章 摩爾定律你聽說過沒有

  08實驗室正在研製的光刻膠,也是國家半導體後備技術的一部分。


  在這個時期,光刻膠並不屬於國外向中國禁售的產品。國際上生產光刻膠的廠商眾多,國內的半導體企業能夠輕而易舉地買到各種光刻膠,而且價格也並不昂貴。


  然而,國家卻依然向楓林研究所下達了研製光刻膠的任務,其目的就是為了萬一遭遇到國外的封鎖,國內自己也能夠提供出合用的光刻膠,確保少數關係國家安全的集成電路的生產不受影響。


  所有的人都知道,國內自己研製的光刻膠生產成本會遠遠高於進口產品,質量則是遠遠不及,在市場上是絕對沒有競爭力的。


  但是,當事關國家生死存亡的時候,這些問題還有必要考慮嗎?

  楓林研究所研究的許多技術,都具有這樣的特徵。相比西方國家而言,這些技術平均要落後一至兩代,即使送給別人,人家也不屑一顧。


  可這並不意味著楓林研究所的保密制度就是多餘的。保密的目的在於讓對手不清楚我們的研究進度到了哪一步,無論對方高估或者低估了我們的水平,都會在戰場博弈或者經濟博弈中犯下一些或大或小的錯誤,而這些錯誤,可能就會成為我們的機會。


  這是弱者的一種生存策略。


  高凡對於國家的整體策略並不十分了解,但在他從雲中明那裡聽到「光致抗蝕劑」這個詞的時候,他就產生出了一個念頭:

  或許,自己能夠做一些事情。


  「徐師兄,我聽畢主任說,你們正在研究的是G線光刻膠。對於i線以及KrF光刻膠,你們有沒有涉及?」高凡問道。


  他說的畢主任,叫畢連生,是08實驗室的室主任,一位不苟言笑的中年知識分子。


  光刻技術,按照使用的光源不同,可以分為許多類,或者稱為不同代際也可以。


  上世紀60年代,光刻技術剛剛出現的時候,使用的是普通的可見光光源,那時候的光刻機其實就是拿一個大燈泡照射掩膜板,和照相館里沖洗照片沒啥區別。


  80年代,光源進化為採用高壓放電汞燈產生的436納米和365納米光源,前者稱為G線光源,後者稱為i線光源,都屬於近紫外光源。


  90年代之後,出現了使用準分子激光器的248納米、193納米和157納米光源,分別稱為KrF、ArF和F2光源,屬於深紫外光源。


  再至於被譽為「皇冠上的明珠」的EUV光刻機,使用的是13.3納米的極紫外光源,它的出現時間已經要算到2010年之後了。


  時下,G線光源還是集成電路製造中使用的主流光源。i線光源光刻機已經問世,但還沒有得到大規模推廣。至於KrF,實驗室概念已經提出來了,真正投入使用,還得是十年後的事情。


  光刻的原理,與沖洗照片是一樣的。首先,要把電路圖製作成底片,稱為掩膜。光源通過掩膜照射在塗了光刻膠的晶元基材上。


  光刻膠由樹脂、感光劑、溶劑和添加劑組成,其中的感光劑在光線照射下會發生反應,使曝光區的光刻膠溶解,這就相當於把掩膜上的電路圖案複製到了晶元基材上。


  隨後,再進行蝕刻、離子注入、封裝等操作,一枚晶元就製作完成了。


  光刻膠中感光劑的選擇,與光源是密切相關的,這涉及到化合物在不同波長光線作用下的變化,機理十分複雜。


  徐雲是知道這些概念的。他原本就是物理系的學生,楓林研究所聘請他的老師前來參與這個項目,就是因為其中涉及到一些光學方面的問題。他在項目組裡耳濡目染了這麼久,對於這些問題自然是非常了解的。


  聽到高凡的問題,徐雲也只能把心裡那些雜念拋開,認真地答道:「我們現在研究的重點,就是G線光刻膠,這也是目前應用最廣泛的。


  「i線光刻膠這方面,畢主任在實驗室會議上提過幾次,讓大家有時間做一些積累,不過目前條件還不成熟。再至於說KrF光刻膠,好像國外也剛剛開始研究吧?」


  「你說i線光刻膠的條件不成熟,是指什麼?」高凡問道。


  徐雲道:「不是我說的,而是畢主任說的。現在國內根本就沒有使用i線光源的光刻機,國外也不多,研究i線光刻膠,是不是有些操之過急了?」


  「我想跟你說的,就是這個。」高凡說,「對了,徐師兄,摩爾定律你聽說過沒有?」


  「當然聽說過。」徐雲不忿地說,「不就是集成電路上的晶體管數量,每兩年就增加一倍嗎?我們好幾個老師上課的時候都提過。」


  「不愧是科大,思維很前衛。」高凡翹個大拇指,贊了一句,卻換來了徐雲一個白眼。


  摩爾定律是1965年提出的,不過直到70年代中期才受到人們的重視。隨著集成電路技術的迅猛發展,摩爾定律一再得到印證,一時間在西方科技界和產業界倍受推崇。


  此時的中國,在全球半導體市場上完全是小透明,根本不具備評論半導體產業發展的資格,因此也就沒什麼人會關注和提及摩爾定律。


  徐雲說他有好幾位老師上課時候都提過摩爾定律,高凡自然是要表示欽佩的。只是以他的身份,擺出這樣一副嘴臉來誇獎中科大,徐雲怎麼能不對他表示一番鄙夷。


  「既然你知道摩爾定律,那麼你想想看,晶元製造技術將會以什麼樣的速度發展?G線光刻機肯定很快就會落伍,下一代i線光刻機會迅速普及。不出十年,市場主流就會是KrF光刻機。」高凡侃侃而談。


  徐雲在心裡默想了一下,點點頭道:「你說得有理,不過,這也是國際市場的潮流吧?咱們國內現在連G線光刻機都沒能掌握,你說的KrF,怎麼也得是20年以後的事情了。」


  「我們為什麼就不能瞄準國際市場呢?」高凡看著徐雲,「造光刻機,需要高精密機床,咱們一時造不出來。可是光刻膠的技術沒多高的門檻,咱們為什麼不能提前一步佔領這個市場呢?」

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