第709章：中國光刻機的希望
“前麵就是asml的一些大佬了。”
“這邊是德州儀器的。”
“還有飛利浦的。”
“至於左邊的……你認得，台積電的張總。”
一進研討會現場，張如京便向陳宇紛紛介紹著一眾芯片領域的大佬。
此時，大概也是看到張如京，台積電張中謀卻是緩緩走了過來。
“陳宇小友，別來無恙呀。”
張中謀首先向陳宇打起了招呼，然後又看向了張如京：“如京，你也來了。”
“張總，這樣的全球性大會，我怎麽能不來。”
張如京雖然被張中謀坑了一把，但他為人內斂，一向善於藏鋒。
他知道，就算是與張中謀撕破臉，這對於他也沒有什麽好處。
“嗬嗬，我就知道你會來。”
張中謀笑道：“如京，你可是找了一位好的合作者，你們的天問芯片非常棒。不過，我看中心現在的生產能力，可能有一些跟不上市場的需求度吧。”
“這個就不容張總擔心了。”
隻是張如京雖然這樣回答，便張中謀卻看向了陳宇：“我覺得陳宇小友應該有自己的判斷。”
很顯然。
張如京拒不拒絕並不重要。
重要的是陳宇的態度。
中心國際隻是一家代工廠，他是給別人代工芯片的。
也就是說，生產出來的芯片是環宇科技的。
環宇科技給中心國際下多少單，中心國際才能生產多少芯片。
如果中心國際產能不夠，環宇科技完全可能將一部分訂單下給台積電。
“張老先生說的是，我會考慮的。”
陳宇沒有拒絕，同樣也沒有答應。
但這般回答，張中謀卻是無比的滿意。
“陳宇，你不要被張中謀給坑了。”
待張中謀離開，張如京有些不悅的說道。
“張總，放心，我們才是同盟。”
陳宇用眼神示意張如京放寬心：“不過，有的時候，我們也不是不能坑他一把。”
被張中謀算計過，陳宇可一直不爽。
有仇不報，那不是陳宇的性格。
“嗬，陳宇，你還挺記仇的。”
“我又不是聖人，肯定記仇。”
陳宇說道：“上次你被坑了，其實也因我而起。說起來，有都有些不好意思。”
“過去的事情不要再提，這完全不怪你。要怪，就怪我們實力太弱。”
這一說，兩人都是沉默。
兩人參加這一次全球性的芯片開發會議，又如何不想振興國內芯片產業呢。
隻是兩人都知道，雖然他們有著無比的雄心，但前路卻是無比的坎坷。
“好了，別說這些了，先聽他們說些什麽。”
指著前方，張如京說道：“這位是飛利浦的首席技術官，他們的芯片技術很厲害。當年的asml其實就是從飛利浦分出來的。”
陳宇點了點頭，用心的聽著。
但可惜，對於技術陳宇並不是很在行。
再加上陳宇英語雖然也還可以，但涉及到這麽專業的術語，陳宇聽得頭都大。
果然，當初就知道來了與沒來一樣。
就算是來了，同樣也聽不懂。
隻是一邊的張如京卻聽得不時拍手稱好，看到陳宇有一些無所事事，便問道：“感覺如何？”
“沒感覺。”
“怎麽沒感覺？”
“聽不懂。”
“這也是，技術可能太複雜了，你畢竟不是專業搞芯片的。”
“主要是我聽不懂他英語說的是什麽。”
“噗……”
張如京目瞪口呆。
但這也是。
像這麽專業的知識，別說是英語一般的，哪怕是英語很牛逼的也感覺是聽天書。
不過，既然來了，雖然有些聽不懂，但陳宇也沒有提前離開。
“這是日本佳能的技術大佬？”
隨著一個一個技術大拿紛紛演講結束，這時，陳宇卻看到講台上走上了一位黃皮膚黑眼睛的亞洲人。
“不是，他是一位越南籍華人，他叫林本艱，祖上好像也是客家人，台積電的技術大拿，在光刻機這一塊很有研究。”
“噢。”
陳宇點頭。
他這一次來這裏聽研討會的目的，不就是為了光刻機嗎？
原本他以為，隻要涉及到光刻機的，要麽是荷蘭，要麽是德國，要麽是日本。
沒想到，在光刻機領域竟然還有一位華人大拿。
這一次，他倒要認真的聽了。
但可惜。
雖然林本艱會說中文，但在這樣的全球性研討會上，演講用的還是英語。
與此前一樣，陳宇也感覺在聽天書。
聽了好一會，陳宇隻聽到幹式，濕式什麽的。
“張總，那個林本艱說的幹式和濕式是什麽意思？”
“說的是生產光刻機的一種技術工藝，目前我們大部分普遍用的是幹式光刻機生產工藝。也就是用空氣做為鏡頭與晶圓間的介質，讓光罩上的圖形在晶圓上成象。不過，這個林本艱覺得，還可以用一種濕式工藝。”
“什麽是濕式？”
“他說的這個濕式名字叫做浸潤式，與濕式差不多。但用的介質卻不一樣，我們一般現在用的是空氣，而林本艱提成了用水做為浸潤式的介質。”
“水？”
聽到水這個詞，陳宇陳宇有些激動。
記得前世，其實在開始之初，荷蘭aslm與德國，與日本幾大光刻機公司實力都差不多。
為什麽後來aslm卻是一統天下，完全與這一些光刻機公司選擇的路線有關。
當時日本，德國，包括美國這一些光刻機公司路線選擇出錯。
而aslm卻是花重金開辟了另一條光刻機生產工藝。
這個工藝，就涉及到水，也就是林本艱現在提到的浸潤式。
“您覺得他的這個工藝有沒有前途？”
陳宇不是很懂技術，但卻知道，這是決定未來光刻機命運的時刻。
在前世2008年之後，全球90%以上生產出來的芯片，用的都是林本艱所提出來的濕式光刻工藝。並且，也正因為林本艱提出了這個濕式工藝，這才將芯片從190納米，一路做到了130納米，90納米，65納米，40納米，28納米，20納米，16納米，10納米，7納米，和5納米。甚至，連最為尖端的3納米，采用的都是林本艱的濕式光刻技術。
“這個，說不準，理論上有可能，但裏麵還存在著一係列要解決的問題。比如，水會不會產生汽泡，水會不會汙染設備，要怎麽做防水，水遇熱會膨脹，折射率會改變，這又怎麽解決……”
張如京向陳宇述說著這一個濕式光刻工藝所麵對的問題。
隻是，這個時候，陳宇的眼睛已經盯緊了林本艱。
他知道。
未來若幹年之後，這一切的問題都不會成為問題。
如果抓住這個林本艱，那麽，中國光刻機就有希望了。